半導體清洗製程 | 化學工廠資訊網
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國內半導體濕製程設備產業中的領導品牌,於台灣北中南部及大中華地區設立服務據點,所製造之8吋及12吋單晶片旋轉清洗、金屬蝕刻化鍍設備設備等,從設計開發、系統 ...,在超大型積體電路(VLSI)製程中,化學機械研磨(chemicalmechanicalpolishing,CMP)製程可提供晶圓表面全面性之平坦化(globalplanarization),尤其當半導體製程進入次 ...,https://i.ytimg.com/vi/ZwZbVIwp9gU/hqdefault.jpg,https://i.ytimg.com/vi/jU2M-CUZEwY/hqdefault.jpg,https://i.ytimg.com/vi/-1_tvQFtWxk/hqdefault.jpg,2020年8月31日—濕法清洗由於使用相對...
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