6 Photolithography | 化學工廠資訊網
控制並調整光阻在曝光過程中的反應...在DUV光線照射下造成光阻產生光酸.(photo-acid).(photoacid).•烘烤(PEB)製程中,催化反應下會驅使光酸.(id)擴散.
控制並調整光阻在曝光過程中的反應 ... 在DUV光線照射下造成光阻產生光酸. (photo-acid). (photo acid). •烘烤(PEB)製程中, 催化反應下會驅使光酸. ( id)擴散.
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第一章緒論 | 化學工廠資訊網
黃光製程> 顯影液 | 化學工廠資訊網
以DNQ-Novalak型光阻為例,在曝光過程中,感光劑DNQ,會進行光化學反應,形成所謂的光酸,Photo-acid。 正型光阻下,顯影就是將曝光區域除去;而負型光阻則是去除未曝光 ... Read More
光阻劑 | 化學工廠資訊網
微影根據在顯影過程中曝光區域的去除或保留可分為兩種-正性光阻劑(positive photoresist)和負性光阻劑(negative photoresist)。 正性光阻劑之曝光部分發生光化學反應 ... Read More
發展下一世代環保微影光罩結構材料 | 化學工廠資訊網
由 吳政三 著作 · 2012 — 英文摘要. Development of green material for mask of next generation lithography ... 曝後烤的目的是消除駐波效應以及在光酸放大型阻劑中提供光. 酸擴散與反應時所 ... Read More
6 Photolithography | 化學工廠資訊網
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光刻 | 化學工廠資訊網
微影製程(英語:photolithography)是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形結構,然後通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移 ... Read More
晶圓的處理- 微影成像與蝕刻 | 化學工廠資訊網
光蝕刻技術 ... 去除溶解度較高的光阻劑. 蝕刻. 移除未被光阻劑覆蓋的. 晶圓外膜. 剝除光阻劑 ... 必須待所有的氟離子反應後方能. 使燒傷程度不再持續提升 ... Read More
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