黃光製程> 顯影液 | 化學工廠資訊網
![黃光製程> 顯影液](https://i.imgur.com/lO00bdM.jpg)
根據光阻的不同,需要不同的光源(Lightsource),曝光能量(Exposuredose)。以DNQ-Novalak型光阻為例,在曝光過程中,感光劑DNQ,會進行光化學反應, ...
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特定類型之導線架於前段打線或模壓製程時會貼耐熱膠帶,除可有效提升耐熱(化)性亦可降低溢(脂)膠的產生。經過高溫製程並撕去膠帶後,一般都會有殘膠殘留於導線架上,當浸泡藥液時可將殘膠溶解並剝離下來。常見的tape殘膠可區分為壓克力系(acrylic type)及矽膠系統(silicone type),本公司係針對殘膠類型先做區分,進而開發出最合適之藥水。
品名 簡介 特性 SID-103 針對矽膠系Tape殘留做去除。 1.取代市面易燃且高COD溶劑。 2. 藥水易管理,廢液處理容易。 SID-113 針對壓克力系Tape殘留做去除。 1.取代市面易燃且高COD溶劑。 2. 藥水易管理,廢液處理容易。 ...
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DeepUV高分子光阻劑之合成與其特性研究 | 化學工廠資訊網
傳統的i-線光阻劑乃是採用DNQ/Novolac系統,這種光阻材料系統可應用至0.35μm之製程,然而隨著集積度的增加,在0.25μm製程以下,這種系統便因其解析力不足, ... Read More
DNQ | 化學工廠資訊網
由 林勳銘 著作 · 2006 — 關鍵字: 光阻;微影;X光微影;photoresist;Lithographic;X-ray Lithographic;DNQ-Novolak. 公開日期: 2006. 摘要: 隨著微影技術的蓬勃發展,使半導體技術可以在相同的 ... Read More
IC光阻市場及技術發展趨勢 | 化學工廠資訊網
圖六即比較看出,DNQ/Novolak光阻在. 曝光前及曝光後之UV吸收情形。 由於感光物曝光後的殘餘吸收會影. 響Bleaching Effect,不容易得到垂直的光. 阻圖案,亦 ... Read More
光阻劑 | 化學工廠資訊網
維基百科,自由的百科全書 · 微影的類別 · 光阻劑組分 · 電子束曝光 · 化學放大光阻劑 · DNQ-Novolac 光阻劑 · 深紫外(DUV)光阻劑 · 極紫外(EUV)光阻劑 ... Read More
光阻劑 | 化學工廠資訊網
光阻. 負光阻及正光阻. 基片. 光阻. 4. 光阻成分. • 高分子. • 溶劑. 1. 溶解高分子. 2. 允許光阻藉由旋轉塗佈而成. 薄層以進行應用. • 感光劑. 1. 決定曝光時間及強度. Read More
光阻劑 | 化學工廠資訊網
光阻劑[編輯] · 1 光刻的類別 · 2 光阻劑組分 · 3 電子束曝光 · 4 化學放大光刻膠. 4.1 光致產酸劑 · 5 DNQ-Novolac 光阻劑 · 6 深紫外(DUV)光阻劑. 6.1 248nm 光阻劑; 6.2 ... Read More
光阻劑 | 化學工廠資訊網
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