光阻化學式 | 化學工廠資訊網
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,根據使用的不同波長的曝光光源,如KrF(248nm),ArF(193nm)和EUV(13.5nm),相應的光阻劑組分也會有一定的變化。如248nm光阻劑常用聚對羥基苯乙烯及其衍生物為光阻劑 ...,2020年8月26日—依曝光的光源不同,光源可區分為紫外線(UV)、深紫外線(DeepUV;DUV)和超紫外線(ExtremeUV;EUV)三種。和紫外線搭配的為g-line(436nm)和i-line(365nm)光 ...,光阻劑(英語:photoresist),亦稱為光阻或光阻劑,是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後,溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料,是微影製程中 ...,光阻,亦稱...
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