光阻顯影劑 | 化學工廠資訊網
![光阻顯影劑](https://i.imgur.com/lO00bdM.jpg)
暫時塗佈在晶圓上表面.•經由曝光製程將設計圖案轉移其上.•非常類似於塗佈在照相機上的光敏.感物質.2.光阻劑.負光阻.•經曝光後變不可.溶.•經顯影製程,未.,微影根據在顯影過程中曝光區域的去除或保留可分為兩種-正性光阻劑(positivephotoresist)和負性光阻劑(negativephotoresist)。正性光阻劑之曝光部分發生光化學 ...,光阻劑(英語:photoresist),亦稱為光阻或光阻劑,是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後,溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料,是微影製程中 ...,光阻劑應用的配方成分20多年以來,SA...
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