【中文發明名稱】 微影圖案化的方法與系統 | 化學工廠資訊網
溶液;而第二溶液210B爲有機溶劑如溶劑OK73,溶劑OK73.爲具有70%重量之丙二醇甲醚(Propyleneglycolmonomethylether;PGME)以及具有30%重量之丙二醇甲醚.
溶液;而第二溶液210B爲有機溶劑如溶劑OK73,溶劑OK73. 爲具有70%重量之丙二醇甲醚(Propylene glycol monomethylether;PGME)以及具有30%重量之丙二醇甲醚.
ok73成分 EBR 成分 ebr溶劑 OK73 MSDS 光阻稀釋劑用途 EBR7030 PGMEA Thinner 半導體 pgmea溶劑 pgmea用途 丙二醇甲醚醋酸酯 PGMEA SDS pgmea中文 OK-73 PMA solvent Propylene glycol monomethyl ether acetate OK73 Thinner OK73 比重 thinner中文 PGMEA 半導體poly是什麼 半導體wet clean etch半導體 半導體spacer用途 興榮科技有限公司 邦泰貿易股份有限公司 索拉諾半導體科技股份有限公司 台灣大昌華嘉股份有限公司 樂威科技股份有限公司 乙炔sds 氬氣 鋼瓶 台塑生醫保健食品
TWI651759B | 化學工廠資訊網
在另一實施例中,第一溶液210A為負調顯影劑,如具有95%乙酸正丁酯之溶液;而第二溶液210B為有機溶劑如溶劑OK73,溶劑OK73為具有70%重量之丙二醇甲醚(Propylene glycol ... Read More
【中文發明名稱】 微影圖案化的方法與系統 | 化學工廠資訊網
溶液;而第二溶液210B爲有機溶劑如溶劑OK73,溶劑OK73. 爲具有70%重量之丙二醇甲醚(Propylene glycol monomethylether;PGME)以及具有30%重量之丙二醇甲醚. Read More
シンナー | 化學工廠資訊網
バックリンスやエッジリンスには、OK73シンナー、LA95シンナーなど、配管洗浄用には溶解性の強い、SWKシンナー、NMPシンナー、γブチルラクトンなど、プリウエット用に ... Read More
光阻稀釋劑(OK | 化學工廠資訊網
光阻稀釋劑(OK-73). 說明:. 產品用途:. 半導體黃光製程中光阻稀釋溶劑、光阻清潔劑、半導體光阻塗佈製程之洗晶邊液。 包材規格:. 55Gal;5Gal;1Gal. 回上一頁. Read More
光阻稀釋劑 | 化學工廠資訊網
價格實惠! 光阻稀釋劑常見的為OK73 或EBR7030 等產品,其中主要成份分別為丙二醇單甲基醚(PGME)與丙二醇單甲基醚酯(PGMEA)這兩種化學物質。 □ OK-73 (PGME + PGMEA) Read More
溶剂 | 化學工廠資訊網
溶剂是一种可以溶解固体,液体或气体溶质的液体,继而成为溶液。在日常生活中最普遍的溶剂是水。而所谓有机溶剂即是包含碳原子的有机化合物溶剂。溶剂通常拥有比较低的 ... Read More
辅助化学品 | 化學工廠資訊網
用于去除晶圆边缘、背面和涂布杯上的光刻胶。 对所有抗蚀剂具有良好的溶解性. OK73 稀释剂, 适用于阴性和阳性光刻胶。 用于去除晶 ... Read More
高科技產業高沸點製程廢氣調查技術研究 | 化學工廠資訊網
由 張瑞琪 著作 · 2010 — EBR-7030 或OK-73 所含主要成分,分別包括丙二醇單甲基醚(PGME). 與丙二醇單甲基醚酯(PGMEA)這兩種化學物質,再加上環己酮. (CHN)、乙酸正丁酯(NBA)與甲苯(Toluene)等 ... Read More
黃光製程> 洗邊劑 | 化學工廠資訊網
另一種方法稱為WEE,Wafer Edge Exposure,再加一層光罩,使邊緣曝光,再由顯影過程中一同除去。 日益和SBD-607為常見的70/30比例,也可根據不同 ... Read More
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臺北市化工廠有哪些?本篇為大家整理位於信義區忠孝東路5段510號25樓的「歐普仕化學科技股份有限公司」相關資訊,用列表的方...