光阻塗敷 | 化學工廠資訊網
![光阻塗敷](https://i.imgur.com/lO00bdM.jpg)
2022年2月15日—化學式與光學式的方法(WEE,WaferEdgeExposure都可用來去除邊緣的小珠(Bead)。copy.編修.排版from半導體製程.洗邊劑 ...
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光阻塗敷之製程步驟如下:
1. 清洗晶圓
晶圓表面的粒子會在光阻上造成針孔(Pinholes);有機和無機污染物都可能造成光阻的附著問題以及元件和電路的缺陷。因此為確保製程的良率,在進行微影製程之前先將污染物減至最低或完全去除是非常重要的。化學清洗是清洗晶圓的一種標準方法,它使用溶劑和酸液來分別清除有機和無機污染殘留物。清洗後通常會接著進行超純水(DI Water)洗滌步驟和旋乾(Spin Dry)步驟。
2. 預備處理過程
光阻的預備處理是一個兩階段的製程,它是在一個一般稱作預備處理反應室的密閉反應室內進行。 加熱製程又稱預烤(Prebake)或脫水烘烤(Dehydrate Bake) 此步驟是為了去除吸附在晶圓表面上的濕氣,對光阻在晶圓表面上的附著而言,一個乾淨且已脫水的晶圓表面是必須的。較差的附著力會導致光阻的圖案化失敗而且會在後續的蝕刻製程中造成底切(Undercut)。 底漆層塗佈(Priming) 此製程中,底漆層(Primer)在光阻塗佈之前就先塗佈於晶圓的表面上,這層薄膜層可以”弄溼”晶圓的表面且增進有機的光阻與無機的矽或是矽化合物晶圓表面之的附著力。
3. 光阻塗佈:
光阻塗佈是一個沉積製程,在沉積時一個薄的光阻層將被塗佈在晶圓的表面上。晶...
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